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藍(lán)寶石晶片一般是一面拋光面，一面是研磨面，拋光面是后續(xù)一面MOVCD生長面，對粗糙度的大小將直接影響到外延片的質(zhì)量，其粗糙度要求是<=0.2nm,研磨面雖然不是MOVCD生長面，但其也對后續(xù)工藝產(chǎn)生影響，其粗糙度的大小一般要求在100um以下.
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